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Unterschied zwischen p-Typ und n-Halbleiter

Die verschiedenen Faktoren wie Dopingelement, Naturdes Dotierungselements, der Majoritäts- und Minoritätsträger im p-Typ und im n-Typ Halbleiter. Die Dichte von Elektronen und Löchern, das Energieniveau und das Fermi-Niveau, die Bewegungsrichtung der Majoritätsträger usw. werden bei der Erklärung des Unterschieds zwischen p-Typ- und n-Typ-Halbleitern berücksichtigt.

Der Unterschied zwischen einem Halbleiter vom p-Typ und einem Halbleiter vom n-Typ ist nachstehend in Tabellenform angegeben.

BASIS DES UNTERSCHIEDSp TYP-HALBLEITERn TYP-HALBLEITER
Gruppe des DopingelementsIm P-Typ wird ein Halbleiter-III-Gruppenelement als Dotierungselement hinzugefügt.Im n-Typ wird ein Halbleiter-V-Gruppenelement als Dotierungselement hinzugefügt.
Natur des DotierungselementsDie hinzugefügte Verunreinigung erzeugt Leerstellen von Elektronen (Löchern), die als Akzeptoratom bezeichnet werden.Die hinzugefügte Verunreinigung liefert zusätzliche Elektronen und wird als Donor Atom bezeichnet.
Art der Verunreinigung hinzugefügtDreiwertige Verunreinigungen wie Al, Ga, In usw. werden zugegeben.Pentavalente Verunreinigungen wie P, As, Sb, Bi usw. werden hinzugefügt.
MehrheitsführerLöcher sind MehrheitsträgerElektronen sind Mehrheitsträger
MinderheitsträgerElektronen sind MinderheitsträgerLöcher sind Minderheitsträger
Dichte von Elektronen und LöchernDie Lochdichte ist viel größer als die Elektronendichte.
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Die Elektronendichte ist viel größer als die Lochdichte.
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EnergielevelDas Energieniveau des Akzeptors liegt nahe am Valenzband und vom Leitungsband entfernt.Das Donator-Energieniveau liegt nahe am Leitungsband und vom Valenzband entfernt.
Fermi-EbeneDas Fermi-Niveau liegt zwischen dem Akzeptor-Energieniveau und dem Valenzband.Das Fermi-Niveau liegt zwischen dem Donator-Energieniveau und dem Leitungsband.
Bewegung der MehrheitsführerDie Mehrheitsträger bewegen sich von einem höheren zu einem niedrigeren Potenzial.Die Mehrheitsträger bewegen sich von einem niedrigeren zu einem höheren Potenzial.

Der p-Halbleiter wird gebildet, wenn dieDem reinen Halbleiter wird eine dreiwertige Verunreinigung zugesetzt. In ähnlicher Weise erhält man, wenn eine pentavalente Verunreinigung dem reinen Halbleiter vom n-Typ hinzugefügt wird.

Unterschied zwischen p-Typ und n-Typ Halbleiter

  • In einem Halbleiter vom p-Typ wird das III-Gruppenelement des Periodensystems als Dotierungselement hinzugefügt, während in n-Typ das V-Gruppenelement das Dotierungselement ist.
  • Dreiwertige Verunreinigung wie Aluminium, Gallium undIndium wird im Halbleiter vom p-Typ hinzugefügt, während in Pentavalent-Verunreinigungen vom n-Typ wie Arsen, Antimon, Phosphor, Wismut usw. hinzugefügt wird.
  • Die in p-Halbleiter hinzugefügte Verunreinigung liefert zusätzliche Löcher, die als Akzeptoratom bekannt sind, während in n-Halbleiter Verunreinigung zusätzliche Elektronen bereitstellt und als Donoratom bezeichnet wird.
  • In einem p-Halbleiter sind die Majoritätsträger Löcher und Minoritätsträger sind Elektronen. In dem Halbleiter vom n-Typ sind Elektronen Majoritätsträger und Löcher sind Minoritätsträger.
  • Die Elektronendichte ist viel größer als die Lochdichte in dem als n bezeichneten Halbleiter ne >> nh In Halbleitern vom p-Typ ist dagegen die Lochdichte viel größer als die Elektronendichte nh >> ne.
  • In einem Halbleiter vom n-Typ ist der Donor-Energieniveauliegt nahe am Leitungsband und vom Valenzband entfernt. In dem Halbleiter vom p-Typ liegt der Akzeptornergiepegel nahe dem Valenzband und vom Leitungsband entfernt.
  • Das Fermi-Niveau des n-Halbleiters liegtzwischen dem Donator-Energieniveau und dem Leitungsband, während das Fermi-Niveau des p-Halbleiters zwischen dem Akzeptorenergieniveau und dem Valenzband liegt.
  • Majoritätsträger bewegen sich beim p-Typ von höherem auf niedrigeres Potential, wohingegen beim n-Typ die Majoritätsträger vom niedrigeren auf höheres Potential gehen.
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